等離子清洗機也叫等離子表面處理儀，是一種全新的高科技技術，利用等離子體來達到常規清洗方法無法達到的效果。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、活性基團、激發態的核素（亞穩態）、光子等。等離子清洗機就是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面，從而實現清潔、改性、涂覆、光刻膠灰化等目的。大部分人可能會感覺很陌生。事實上，等通過對樣品表面進行改性（親水性），同時除掉表面有機物，使多種材料之間能夠進行貼合、涂覆、鍍膜等工藝操作。從研究開發到工藝生產使用，從表面微細加工到表面處理改質效果都非常好，應用廣泛。
等離子清洗機應用介紹：
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在晶圓、玻璃等產品的表面Particle去除的工藝中，通常都是采用Ar等離子體對表面Particle進行轟擊，以達到Particle被打散、松動（與基材表面脫離）的效果，再配合超聲波清洗或離心清洗等工藝，將表面的Particle進行去除。特別是在在半導體封裝工藝中，完成打線工藝后為防止導線氧化，都是采用氬等離子體或氬氫等離子體進行表面清洗。
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等離子清洗機的表面粗化又稱表面刻蝕，其目的是提升材料表面的粗糙度，以增加粘接、印刷、焊接等工藝結合力，經氬等離子清洗機處理后的表面張力會明顯提升。活性氣體所產生的等離子體也可以增加表面的粗糙度，但氬氣電離后產生的粒子相對較重，氬離子在電場的作用下的動能會明顯高于活性氣體，所以其粗化效果會更加明顯，在無機物基材表面粗化工藝中應用廣泛。如玻璃基材表面處理、金屬基材表面處理等。
③活性氣體輔助
在等離子清洗機的活化和清洗工藝中，工藝氣體經常被混合使用，以達到更佳的效果。
因為氬氣的分子比較大，電離后產生的粒子比較后，在進行表面清洗和活化時通常會配合活性氣體混合使用，常見的就是氬氣和氧氣的混合。氧氣為高活性氣體，可有效的對有機污染物或有機基材表面進行化學分解，但其粒子相對較小，斷鍵和轟擊能力有限，如加上一定比例的氬氣，那么所產生的等離子體對有機污染物或有機基材表面的斷鍵和分解能力就會更強，加快清洗和活化的效率。
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