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  • NMC-4000PAMOCVD等離子輔助MOCVD
    NMC-4000PAMOCVD等離子輔助MOCVD

    NMC-4000PAMOCVD等離子輔助MOCVD:針對InGaN及AlGaN沉積工藝所研發的臺式等離子輔助金屬有機化學氣相沉積系統(PA-MOCVD),該系統具有5個鼓泡裝置(各帶獨立的冷卻槽)、加熱的氣體管路、950度樣品臺三個氣體環、淋浴式氣體分布的RF射頻等離子源以及工藝終端的N2沖洗、 250l/sec渦輪分子泵及無油真空泵(5 x 10-7Torr極限真空)、PC全自動控制,*的安全

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  • NMC-3000 PAMOCVD系統
    NMC-3000 PAMOCVD系統

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  • NMC-4000(M)PAMOCVD系統
    NMC-4000(M)PAMOCVD系統

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  • NMC-4000(A)全自動PAMOCVD系統
    NMC-4000(A)全自動PAMOCVD系統

    NMC-4000(A)全自動PAMOCVD系統:針對InGaN及AlGaN沉積工藝所研發的臺式等離子輔助金屬有機化學氣相沉積系統(PA-MOCVD),該系統具有5個鼓泡裝置(各帶獨立的冷卻槽)、加熱的氣體管路、950度樣品臺三個氣體環、淋浴式氣體分布的RF射頻等離子源以及工藝終端的N2沖洗、250l/sec渦輪分子泵及無油真空泵(5 x 10-7Torr極限真空)、PC全自動控制。

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