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勻膠旋涂儀產品概述：旋涂是一種廣泛使用的多功能技術，用于將材料沉積到基材上，從而獲得可控的薄膜厚度。該款勻膠旋涂儀價格實惠，操作簡單，結構小巧緊湊，占地空間小，為實驗室提供了理想的解決方案。該款勻膠旋涂儀采用創新設計的托盤，無需真空泵或充氮...

微波等離子去膠機是半導體工業及從事微納加工工藝研究的必要設備，主要用于半導體加工工藝及其它薄膜加工工藝過程中，各類光刻膠的干法去除、基片清洗和電子元件的開封等。微波等離子去膠機主要應用：等離子體表面改性、有機物表面等離子體清潔、等離子體刻蝕...

等離子清洗機原理是在真空狀態下使電極之間形成高頻交變電場，區域內氣體在交變電場的激蕩下，形成等離子體，活性等離子對被清洗物進行物理轟擊與化學反應雙重作用，使被轟擊與化學反應雙重作用，使被清洗物表面物質變成粒子，和氣態物質，經過抽真空排出，而...

微波等離子去膠機是石英腔的微波等離子系統，可以安裝到超凈間墻上。該系列的微波等離子系統可以用于批處理，也可以作為單片處理，系統為計算機全自動控制的系統。典型工藝包含：大劑量離子注入后的光刻膠去除；干法刻蝕工藝的前處理或后處理；MEMS制造中...

光學接觸角測量儀整機由精密光學機械結構、光學成像系統、精密滴定系統以及專業級的界面化學分析軟件CAST2.0組成，可用于測試動態和靜態接觸角值、固體表面自由能及其分布（色散力、極性力、氫鍵力）、液-氣和液-液界面張力值（pendantdro...

等離子清洗機的應用，起源于20世紀初，隨著高科技產業的快速發展，其應用越來越廣，目前已在眾多高科技領域中，居于關鍵技術的地位，等離子清洗技術對產業經濟和人類文明影響zui大，*電子資訊產業，尤其是半導體業與光電產業。等離子清洗機優勢：一、清...

等離子清洗機是一種全新的高科技技術，利用等離子體來達到常規清洗方法無法達到的效果。等離子體是物質的一種狀態，也叫做物質的第四態。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、活性基團、激發態的核素（亞...

天津大學HarrickPlasmaCleaner等離子清洗機順利安裝成功感謝天津大學機械工程學院、精儀學院對德國韋氏納米系統的支持厚愛，希望我司能為貴校提供更好的服務，！希望GermanFirstNanoSystem中國區事業部在2017年...

Harrick等離子清洗機的應用，起源于20世紀初，隨著高科技產業的快速發展，其應用越來越廣，目前已在眾多高科技領域中，居于關鍵技術的地位，等離子清洗技術對產業經濟和人類文明影響zui大，*電子資訊產業，尤其是半導體業與光電產業。Harri...

基本型等離子清洗機兩個電極形成電磁場，用真空泵實現一定的真空度，隨著氣體越來越稀薄，分子間距及分子或郭的自由運動距離也越來越長，受磁場作用，發生碰撞而形成等離子體，同時會發生輝光，等離子體在電磁場內空間運動，并轟擊被處理物體表面，達到去除表...