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薄膜反射儀主要用于建筑節能領域外墻熱反射涂料、節能玻璃、油漆、金屬等材料的現場太陽反射比測量，同時也適用于涂料、油漆等材料的配方研發及生產測試，可以同時面向工程現場檢測和實驗室檢測。具有性價比高，測量快速、準確，操作簡單，攜帶方便等特點，配...

濕法刻蝕系統工藝主要包括三部分：硫酸、硝酸、氫氟酸氫氧化鉀氫氟酸本工藝過程中，硝酸將硅片背面和邊緣氧化，形成二氧化硅，氫氟酸與二氧化硅反應生成絡合物六氟硅酸，從而達到刻蝕的目的。刻蝕之后經過KOH溶液去除硅片表面的多孔硅，并將從刻蝕槽中攜帶...

濕法制粒(wetgranulation)是在藥物粉末中加入液體粘合劑，靠粘合劑的架橋或粘結作用使粉末聚結在一起而制備顆粒的方法。由于濕法制粒的產物具有外形美觀、流動性好、耐磨性較強、壓縮成形性好等優點，在醫藥工業中的應用廣泛。而對于熱敏性、...

AT-400原子層沉積是一種可以將物質以單原子膜形式一層一層的鍍在基底表面的方法。原子層沉積與普通的化學沉積有相似之處。但在原了層沉積過程中，新一層原子膜的化學反應是直接與之前一層相關聯的，這種方式使每次反應只沉積一層原子。原子層淀積（AL...

熱重分析質譜儀就是將熱重分析儀（TGA）與質譜儀聯用，可以檢測到非常低含量的雜質，這一手段越來越受歡迎。然而，在實時監測時，TG-MS聯用會因多重反應同時發生或者高質量離子掩蓋低質量的而使結果變得混亂復雜。在此體系中加入氣相（GC），多重反...

基本型等離子清洗機也叫等離子清潔機，或者等離子表面處理儀，是一種全新的高科技技術，利用等離子體來達到常規清洗方法無法達到的效果。等離子體是物質的一種狀態，也叫做物質的第四態，并不屬于常見的固液氣三態。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子...

去膠工藝是微加工工藝過程中一個非常重要的工藝環節。在光刻工藝之后，我們往往需要面臨顯影后的底膠去除或者干法蝕刻工藝后變性的光刻膠的去除工作，這些環節中光刻膠去除的是否干凈*以及對樣片是否有損傷等將直接影響到后續工藝的進行以及器件的性能。微波...

氣體流量混合器在工業和科學上都有重要的意義。流量測量是一門迅速發展的技術，為了滿足各行各業、各種工況的各種流體的流量測量需要，儀表研究機構研究開發了各種原理的流量計，制造廠每年都有新型流量計供應市場。流量計是工業測量中重要的儀表之一。需要測...

激光二極管測試儀器是針對二極管分選設備而專門設計配套的智能型測試儀器，主要用于二極管在恒定電流時其兩端的正向電流電壓，反向恒壓時測量其反向漏電流。儀器也可以用作一般直流電壓源、電流源使用，因此是一種多功能、多用途的實驗室儀器。儀器精度高速度...

靜態滴膠就是簡單地把光刻膠滴注到靜止的基片表面的中心，滴膠量為1-10ml不等。滴膠的多少應根據光刻膠的粘度和基片的大小來確定。粘度比較高和/或基片比較大，往往需要滴較多的膠，以保證在高速旋轉階段整個基片上都涂到膠。動態滴膠方式是在基片低速...