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勻膠顯影系統具有可編程閥，它可以使單注射器試劑滴膠按照蝕刻、顯影和清洗應用的要求重復進行，如沖洗（通常是去離子水或溶劑），然后干燥（通常是氮氣）等后的處理步驟。采用此序貫閥門技術的晶圓片和管道在*干燥的環境中開通和關閉處理過程。隔離和獨立的...

光學接觸角測量儀可以記錄液滴圖像并且自動分析液滴的形狀。液滴形狀是液體表面張力、重力和不同液體樣品的密度差和濕度差及環境介質的函數。在固體表面上，液滴形狀和接觸角也依賴于固體的特性（例如表面自由能和形貌）。使用液滴輪廓擬合方法對獲得的圖像進...

PDC-002等離子清洗機是一種小型化、超清洗設備。等離子清洗機采用氣體作為清洗介質，有效地避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。等離子清洗機外接一臺真空非破壞性的泵，工作時等離子體表面處理儀的清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表...

勻膠旋涂機的工作原理是高速旋轉基片，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂在基片上，甩膠機常用于各種溶膠凝膠（Sol-Gel）實驗中的薄膜制作，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數而不同，也和旋轉速度及時間有關。勻膠旋涂機機身采用全工程塑料制作，...

Harrick等離子清洗機采用電感耦合高密度等離子體(ICP)，能快速去除晶圓上之殘留光阻(光刻膠)，達到晶圓表面潔凈，Harrick等離子清洗機具有蝕刻率高，無電極污染，離子能量低，不損傷基板等優點。Harrick等離子清洗機的結構組成，...

勻膠旋涂機工作原理是高速旋轉基片，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂在基片上，勻膠旋涂機常用于各種溶膠凝膠（Sol-Gel）實驗中的薄膜制作，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數而不同，也和旋轉速度及時間有關。可以設定多達20個程序段來存儲不...

微波等離子去膠機概述：Q系列等離子清洗機是石英腔的微波等離子系統，可以安裝到超凈間墻上。該系列的微波等離子系統可以用于批處理，也可以作為單片處理，系統為計算機全自動控制的系統。典型工藝包含：大劑量離子注入后的光刻膠去除；干法刻蝕工藝的前處理...

PDC-002等離子清洗機是一種小型化、超清洗設備。該款等離子體表面處理儀采用氣體作為清洗介質，有效地避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。這款等離子體表面處理儀外接一臺真空非破壞性的泵，工作時等離子體表面處理儀的清洗腔中的等離子體...

等離子清洗機分大氣壓的和真空的兩大類，大氣的又分為帶狀等離子清洗機和電暈機兩種，真空等離子清洗機在加入腐蝕性氣體后，具備蝕刻能力，通常蝕刻膠水和電氣走線，應用在PCB及芯片行業。等離子清洗機是一種全新的高科技技術，利用等離子體來達到常規清洗...

擴展型等離子清洗機采用氣體作為清洗介質，有效地避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。等離子清洗機外接一臺真空泵，工作時清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面，短時間的清洗就可以使有機污染物被*地清洗掉，同時污染物被真空泵抽走，其清...