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光學接觸角測量儀一般采用自動測量方式，通過顯微鏡、光源、光學投影儀等光學元件的組合，將液滴表面的干涉條紋實時投影到顯微鏡的目鏡中，再通過目鏡調焦，調節光學光路，使干涉條紋清晰可見。然后，通過光學接觸角儀的測量模塊對干涉條紋進行圖像分析，計算...

薄膜反射儀的原理基于光的干涉，光波在薄膜中傳播時會受到不同路徑的干涉效應影響，從而影響反射光的強度和相位。通過測量這些反射光的特性，可以推導出薄膜的厚度和折射率。不僅可以應用于實驗室的科學研究，還可以用于工業生產中的薄膜涂層、光學元件等的檢...

基本型等離子清洗機能夠快速而地去除電子零件表面的灰塵、油污等污垢，提高產品質量；可用于清洗管道、儲罐等設備，消除污垢對生產過程的影響；能夠對食品包裝容器進行潔凈處理，避免食品污染；用于清洗醫療器械，可以有效滅菌和除去殘留物，保證患者的安全。...

Harrick等離子清洗機具有清洗速度快、清洗效果好、操作簡便等特點。它可以清洗多種材料的表面，包括玻璃、金屬和半導體等。它廣泛應用于實驗室研究和制造工藝中，如光學和光子學器件制備、表面處理和薄膜沉積等領域。Harrick等離子清洗機的常見...

勻膠旋涂儀的工作原理簡單但有效。通過調節轉盤的轉速、膠刀的壓力和膠液的流量等參數，可以得到所需的涂布薄膜厚度和均勻度。廣泛應用于材料研究、薄膜制備、電子器件制造等領域。選擇合適的勻膠旋涂儀可以提高實驗效果和工作效率：1.根據實驗需求確定需要...

擴展型等離子清洗機通過不斷地生成和消失，等離子體能夠在物體表面上形成一層物理化學的清洗層，將物體表面的污染物去除。清洗過程中的副產物主要是水和二氧化碳，這些副產物通過真空系統和氣體凈化系統排出，廣泛的應用領域，涵蓋了電子、光學、材料、生物醫...

熱重分析質譜儀(TGA-MS)是一種結合了熱重分析和質譜技術的分析儀器，可用于定量分析樣品隨著溫度變化而發生的重量變化和氣體釋放情況，同時確定氣體成分。主要由兩部分組成：熱重分析儀和質譜儀。在TGA中，樣品在加熱過程中會發生物理或化學變化，...

微波等離子去膠機是在(RIE)反應離子刻蝕機的基礎上簡化改進而來，為小型等離子去膠機，具有體積小，性能優良、用途多、工藝速率高、均勻性及重復性好、價格低、使用方便等特點。是各電子器件企業及科研單位、大專院校的機型。適合于微電子制作工藝中光刻...

等離子清洗機真空泵是用各種方法在某一封閉空間中產生、改善和維持真空的裝置。真空泵可以定義為：利用機械、物理、化學或物理化學的方法對被抽容器進行抽氣而獲得真空的器件或設備。隨著真空應用的發展，真空泵的種類已發展了很多種，其抽速從每秒零點幾升到...

PDC-002等離子清洗機由等離子發生器、輸氣管道、等離子噴嘴等部件組成。等離子體發生器產生的高壓高頻能量在噴嘴鋼管內被激活和控制的輝光放電中產生低溫等離子體。等離子體通過壓縮空氣噴射到工件表面。當等離子體遇到待處理物體的表面時，物體會發生...