等離子清洗機采用氣體作為清洗介質,能夠有效地避免液體清洗介質對清洗物產生的二次污染。外接的真空泵,清洗腔中等離子體沖刷被洗物的表面,短時間就能夠將有機污染物*清洗掉,于此同時,污染物還被真空泵抽走,這樣就達到了清洗的目的。在特定的環境中,可以根據不同的材料表面改變其性能。等離子體作用于表面,使材料的表面分子化學鍵發生重組,來形成新的表面特性。
等離子清洗機處理的優點:
*去除殘留的有機雜質和有機污染物
*準備的表面(如薄膜沉積或吸附的分子隨后處理)
*等離子清洗機能夠改善表面涂層覆蓋面和傳播,加強兩者之間的表面附著力
*修改潤濕使表面親水性或疏水與適當的工藝氣體
*受影響的只是表面,不改變材料的大部分特性
*等離子清洗機能改善多種材料以及復雜曲面幾何形狀。
等離子清洗機的工藝的目的是要是引線拉力強度zui大,因而減少失效和提高合格率。在做到這一點的同時,又要盡量不影響封裝生產線的產量。因此關鍵的是要通過審慎地選擇工藝氣體、操作壓力、時間和等離子功率來優化等離子工藝。如果工藝條件選擇不當,可能造成引線接合強度的改善有限,或者甚至降低引線接合強度。利用等離子清洗機在集成電路中的清潔時也要合理的使用工藝氣體,壓力,和等離子功率等,都需要謹慎的選擇,以至于達到更好的效果。
等離子清洗機的技術是一新興的領域,該領域結合等離子物理、等離子化學和氣固相界面的化學反應,此為典型的高科技產業,需跨多種領域,包括化工、材料和電機,因此將挑戰性,也充滿機會,由于半導體和光電材料在未來得快速成長,此方面應用需求將越來越大。