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  • NMC-4000(M)PAMOCVD系統
    NMC-4000(M)PAMOCVD系統

    NMC-4000(M)PAMOCVD系統:針對InGaN及AlGaN沉積工藝所研發的臺式等離子輔助金屬有機化學氣相沉積系統(PA-MOCVD),該系統具有5個鼓泡裝置(各帶獨立的冷卻槽)、加熱的氣體管路、950度樣品臺三個氣體環、淋浴式氣體分布的RF射頻等離子源以及工藝終端的N2沖洗、250l/sec渦輪分子泵及無油真空泵(5 x 10-7Torr極限真空)、PC全自動控制。

    更新時間:2017-03-03型號:瀏覽量:1379
  • NMC-4000(A)全自動PAMOCVD系統
    NMC-4000(A)全自動PAMOCVD系統

    NMC-4000(A)全自動PAMOCVD系統:針對InGaN及AlGaN沉積工藝所研發的臺式等離子輔助金屬有機化學氣相沉積系統(PA-MOCVD),該系統具有5個鼓泡裝置(各帶獨立的冷卻槽)、加熱的氣體管路、950度樣品臺三個氣體環、淋浴式氣體分布的RF射頻等離子源以及工藝終端的N2沖洗、250l/sec渦輪分子泵及無油真空泵(5 x 10-7Torr極限真空)、PC全自動控制。

    更新時間:2017-03-03型號:瀏覽量:1141
  • AT-410原子層沉積系統
    AT-410原子層沉積系統

    AT-400原子層沉積系統高縱橫比沉積,具有良好的共形性;曝光控制,用于在 3D 結構上實現所需的共形性;預置有經驗證過的 3D 和 2D 沉積的優化配方;簡單便捷的系統維護及安全聯鎖;目前市面上占地小,可兼容各類潔凈室要求的系統;

    更新時間:2024-06-17型號:AT-410瀏覽量:1827
  • NLD-4000(ICPA)全自動PEALD系統
    NLD-4000(ICPA)全自動PEALD系統

    NLD-4000(ICPA)全自動PEALD系統:ALD原子層沉積可以滿足精確膜厚控制以及高深寬比結構的保形沉積,這方面ALD原子層沉積遠超過其它沉積技術。由于前驅體流量的隨意性不會帶來影響,所以在ALD原子層沉積中有序、自限制的表面反應將會帶來非統計的沉積。這使得ALD原子層沉積膜保持高度的光滑、連續以及無孔的特性,可以提供的薄膜性能。ALD原子層工藝也可以實現到大基片上。

    更新時間:2017-03-03型號:瀏覽量:1172
  • NLD-4000NLD-4000(ICPM)PEALD系統
    NLD-4000NLD-4000(ICPM)PEALD系統

    NLD-4000NLD-4000(ICPM)PEALD系統:ALD原子層沉積可以滿足精確膜厚控制以及高深寬比結構的保形沉積,這方面ALD原子層沉積遠超過其它沉積技術。由于前驅體流量的隨意性不會帶來影響,所以在ALD原子層沉積中有序、自限制的表面反應將會帶來非統計的沉積。這使得ALD原子層沉積膜保持高度的光滑、連續以及無孔的特性,可以提供的薄膜性能。ALD原子層工藝也可以實現到大基片上。

    更新時間:2017-03-03型號:瀏覽量:1087
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