光學元件原子級清洗鍍膜系統

光學元件原子級拋光鍍膜設備概述：NANO-MASTER 離子束清洗拋光-磁控濺射鍍膜系統提供*進的技術，在一個腔體中實現原子級清洗和光學樣片拋光，然后把樣片傳送到第二級腔體中對同一樣片進行表面涂覆，整個過程不間斷真空。系統的設計也可以支持其中任一個腔體的單獨使用，同時具備各自的自動上/下載片功能。

光學元件原子級拋光鍍膜設備應用

Optical Coatings 光學涂層
Sputtering  濺射
IBAD  IBAD離子束輔助沉積
Ion Beam Etching Cleaning  離子束刻蝕清洗
Ion Beam Assisted Reactive Etching 離子束輔助反應刻蝕
Infrared Coatings  紅外涂層
Surface Treatment   表面處理
產品特點:

RF Biasable Platen  RF射頻偏壓樣品臺
Thickness Monitor   膜厚監測儀
5x10-7 Torr Base Pressure  極限真空5x10-7Torr
High Accuracy and Repeatability  高精度及高重復性
High Quality Films  高品質膜層
Atomic Level Clean Surfaces   原子級的潔凈表面
Atomic Cleaning and Polishing  原子級清洗和拋光
PC Controlled with LabVIEW  通過LabView軟件實現PC計算機全自動控制
Automatic Load/Unload  自動上下載片
Automatic Transfer Between Chambers  兩個腔體之間自動傳送
Recipe Driven, Password Protected 菜單驅動，4級密碼訪問保護
Safety Interlocks 完整的安全聯鎖
46”D x 44”W Footprint  占地面積46”D x 44”W
選配項:

Sputter Down/Up  向下/向上濺射
Co-Sputtering 共濺射
DC, RF and Pulsed Power Supplies  DC，RF以及脈沖電源
Ion Beam Assisted Deposition 離子束輔助沉積
E-Beam Sources 電子束源
Plasma Sources 等離子源