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NTE-3500（A）全自動熱蒸發系統：全自動立式熱蒸發系統，在有機物和金屬沉積方面具有廣泛的應用。設備具有占地面積小、干凈、均勻、可控及可重復的工藝特點。具有低價格, 高性能以及高能力的特點，可滿足于客戶研發及小規模生產的應用要求，該系統可以在設定的RMS電流下，或者在閉環的配置下操作，并且在這種情況下沉積速度的變化被用于調節RMS電流以維持恒定的沉積速度。

NTE-4000（M）熱蒸發系統：NTE-4000是PC控制的立式熱蒸發系統，在有機物和金屬沉積方面具有廣泛的應用。設備具有占地面積小、干凈、均勻、可控及可重復的工藝特點。具有低價格, 高性能以及高能力的特點，可滿足于客戶研發及小規模生產的應用要求，該系統可以在設定的RMS電流下，或者在閉環的配置下操作，并且在這種情況下沉積速度的變化被用于調節RMS電流以維持恒定的沉積速度。

NTE-3000熱蒸發系統：NTE-3000是PC控制的臺式熱蒸發系統，在有機物和金屬沉積方面具有廣泛的應用。設備具有占地面積小、干凈、均勻、可控及可重復的工藝特點。具有低價格, 高性能以及高能力的特點，可滿足于客戶研發及小規模生產的應用要求，該系統可以在設定的RMS電流下，或者在閉環的配置下操作，并且在這種情況下沉積速度的變化被用于調節RMS電流以維持恒定的沉積速度。

NTE-4000（A）NTE-4000（A）全自動熱蒸發系統：全自動立式熱蒸發系統，在有機物和金屬沉積方面具有廣泛的應用。設備具有占地面積小、干凈、均勻、可控及可重復的工藝特點。具有低價格, 高性能以及高能力的特點，可滿足于客戶研發及小規模生產的應用要求，該系統可以在設定的RMS電流下，或者在閉環的配置下操作，并且在這種情況下沉積速度的變化被用于調節RMS電流以維持恒定的沉積速度。

NOC-4000離子束刻蝕濺射鍍膜一體機：NANO-MASTER 離子束清洗拋光-磁控濺射鍍膜系統提供*進的技術，在一個腔體中實現原子級清洗和光學樣片拋光，然后把樣片傳送到第二級腔體中對同一樣片進行表面涂覆，整個過程不間斷真空。系統的設計也可以支持其中任一個腔體的單獨使用，同時具備各自的自動上/下載片功能。