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磁控濺射系統

簡要描述:GSC-1000磁控濺射系統概述:
帶有水冷或者加熱(高可加熱到700度)功能,大到6“旋轉平臺,大可支持到2個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵,極限真空可達10-7 Torr,15分鐘內可以達到10-6 Torr的真空。通過調整磁控管與基片之間的距離,可以獲得想要的均勻度和沉積速度。

產品型號: GSC-1000

所屬分類:磁控濺射系統

更新時間:2019-01-15

廠商性質:生產廠家

詳情介紹

GSC-1000磁控濺射系統?

GSC-1000磁控濺射系統概述:

帶有水冷或者加熱(高可加熱到700度)功能,大到6"旋轉平臺,大可支持到2個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵,極限真空可達10-7 Torr,15分鐘內可以達到10-6 Torr的真空。通過調整磁控管與基片之間的距離,可以獲得想要的均勻度和沉積速度。

產品特點:

  • 不銹鋼,鋁質腔體或鐘罩式耐熱玻璃腔

  • 70l/s的渦輪分子泵,串接機械泵或干泵

  • 1KW DC直流電源

  • 晶振夾具具有的<1 ?的厚度分辨率

  • 帶觀察視窗的腔門易于上下載片

  • 基于LabView軟件的PC計算機控制

  • 帶密碼保護功能的多級訪問控制

  • *的安全聯鎖功能

    選配項:
    Thickness Monitor   膜厚監測
     

    應   用:

    • SEM應用

    • 濺射金屬,大到6"的晶圓片

     

     

     

                                                                                           

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