Trion Orion III PECVD薄膜沉積系統可以在緊湊的平臺上生產高品質的薄膜。*的反應器設計可以在在極低的功率生產具有優異臺階覆蓋的低應力薄膜。該系統可以滿足實驗室和中試生產環境中的所有安全，設施和工藝標準要求。

Trion Orion III PECVD薄膜沉積系統具有許多標準的需求功能，而且是這樣一個如此合理價格，這就是為什么許多世界各地的用戶已經作出了Trion Orion III PECVD薄膜沉積系統的選擇。

特征：

沉積薄膜：氧化物、氮化物、氧氮化物，非晶硅。

工藝氣體：＜20%硅烷、氨氣、正硅酸乙酯、二乙基硅烷、氧化亞氮、氧、氮

應用：

MEMS, 固態照明，失效分析，研發，試驗線.

客戶留言：

“相比較實驗室的其他設備，我發現該設備（Orion III PECVD薄膜沉積系統和 Phantom RIE 刻蝕系統）是非常強大的。”–Lee M. Fischer，國家納米技術研究所，艾伯塔大學

“I’ve found both machines (Orion PECVD and Phantom RIE) to be quite robust, indestructible by comparison to some other lab equipment.” – Lee M. Fischer, National Institute for Nanotechnology, University of Alberta