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美國NXQ以的性能,經濟的價格,深受用戶喜愛,截至2016年底,超過5000臺NXQ曝光系統遍布*科研實驗室,研發中心。
NXQ4000系列半自動掩膜對準曝光系統,融合了獨立的模塊化設計,精準控制對準和曝光等特點,自動程序控制使得該系統易于操作存儲和使用,適合實驗室多用戶使用。
該系統特點:
鍥型誤差補償系統----*的WEC設計
紫外燈源的多樣性選擇
曝光光路的精準控制
視像分辨技術------在Video View Microscope 和Quadcam Microscope中快速切換
高效對準控制-----可選配IR或OBS雙面對準
使用領域(包括但不限于下述領域的光刻工藝)