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單晶圓兆聲清洗機

簡要描述:兆聲晶圓清洗機:
First-Nano 兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復性、高均勻性及*進的兆聲清洗。它可以在一個工藝步驟中包含了的無損兆聲清洗、化學試劑清洗、刷子清洗以及干燥功能。

產品型號: SWC-4000

所屬分類:單片晶圓兆聲清洗機

更新時間:2017-07-12

廠商性質:生產廠家

詳情介紹

SWC-4000兆聲晶圓清洗

SWC-4000兆聲晶圓清洗機應用:

  • 帶圖案或不帶圖案的掩模版和晶圓片
  • Ge, GaAs以及InP晶圓片清洗
  • CMP處理后的晶圓片清洗
  • 晶圓框架上的切粒芯片清洗
  • 等離子刻蝕或光刻膠剝離后的清洗
  • 帶保護膜的分劃版清洗
  • 掩模版空白部位或接觸部位清洗
  • X射線及極紫外掩模版清洗
  • 光學鏡頭清洗
  • ITO涂覆的顯示面板清洗
  • 兆聲輔助的剝離工藝

SWC-4000兆聲晶圓清洗機的特點:

  • 支持12"直徑的圓片或9"x9"方片
  • 獨立系統
  • 無損兆聲,試劑,毛刷清洗及旋轉甩干
  • 微處理機自動控制
  • 化學試劑滴膠單元
  • 溶劑與酸分離排廢
  • 熱氮
  • 30"D x 26"W 的占地面積

SWC-4000兆聲晶圓清洗機選配項:

  • 掩模板或晶圓片夾具
  • 臭氧清洗
  • PVA軟毛刷清洗
  • 高壓DI清洗
  • 氮氣離子發生器

客戶可以根據基板尺寸的大小訂制不同的兆聲清洗系統,如有技術咨詢,請及時:



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