單晶圓兆聲清洗機
簡要描述:兆聲晶圓清洗機:First-Nano 兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復性、高均勻性及*進的兆聲清洗。它可以在一個工藝步驟中包含了的無損兆聲清洗、化學試劑清洗、刷子清洗以及干燥功能。
產品型號: SWC-4000
所屬分類:單片晶圓兆聲清洗機
更新時間:2017-07-12
廠商性質:生產廠家
詳情介紹
SWC-4000兆聲晶圓清洗:
SWC-4000兆聲晶圓清洗機應用:
- 帶圖案或不帶圖案的掩模版和晶圓片
- Ge, GaAs以及InP晶圓片清洗
- CMP處理后的晶圓片清洗
- 晶圓框架上的切粒芯片清洗
- 等離子刻蝕或光刻膠剝離后的清洗
- 帶保護膜的分劃版清洗
- 掩模版空白部位或接觸部位清洗
- X射線及極紫外掩模版清洗
- 光學鏡頭清洗
- ITO涂覆的顯示面板清洗
- 兆聲輔助的剝離工藝
SWC-4000兆聲晶圓清洗機的特點:
- 支持12"直徑的圓片或9"x9"方片
- 獨立系統
- 無損兆聲,試劑,毛刷清洗及旋轉甩干
- 微處理機自動控制
- 化學試劑滴膠單元
- 溶劑與酸分離排廢
- 熱氮
- 30"D x 26"W 的占地面積
SWC-4000兆聲晶圓清洗機選配項:
- 掩模板或晶圓片夾具
- 臭氧清洗
- PVA軟毛刷清洗
- 高壓DI清洗
- 氮氣離子發生器
客戶可以根據基板尺寸的大小訂制不同的兆聲清洗系統,如有技術咨詢,請及時: